1. תהליכים מיוחדים למודולי LCD תעשייתיים
מודולי תצוגת קריסטל נוזלי תעשייתי (LCDs) דורשים סדרה של תהליכי ייצור מיוחדים לשמירה על יציבות ואמינות בסביבות קשות, השונות באופן משמעותי מאלו המשמשים במוצרי תצוגה מסחריים קונבנציונליים.
גבוה - תהליך עירוי גביש נוזלי טמפרטורה
תעשייתי - LCDs כיתה משתמשים בחומרים גבוהים {}}} חומרי גביש נוזלים טמפרטורה. תהליך העירוי דורש בקרת טמפרטורה מדויקת תחת ואקום. רמפת טמפרטורת צעד רב - רמפת טמפרטורת צעד (בדרך כלל 25 מעלות → 85 מעלות → 110 מעלות) מבטיחה יישור אופטימלי של מולקולות הגביש הנוזל במהלך תהליך העירוי. תהליך זה מבטיח ביצועי תצוגה יציבים בטווח טמפרטורות של -30 מעלות ל 85 מעלות, תוך חריגה בהרבה ממגוון ההפעלה של 0-50 מעלות של LCDs קונבנציונליים.
טכנולוגיית מליטה משופרת
באמצעות שילוב של אופטי - uv - ריפוי דבק וריפוי חם - לחץ על תהליך למינציה:
לפני - שלב הריפוי: החל לחץ 0.3 MPA על 50 מעלות למשך 90 שניות.
שלב הריפוי הראשי: הקרן עם מנורת UV של 365 ננומטר, השולטת ברמת האנרגיה ל 3000-3500 MJ/cm².
פרסם - טיפול בריפוי: טיפול בחום 80 מעלות למשך 30 דקות כדי לשפר את ההדבקה הממשקית.
תהליך מליטה משופר זה מבטיח כי התנגדות הרטט של המודול עומדת בסטנדרטים צבאיים של 5-500 הרץ/3G.
Multi - שכבה אנטי - טיפול בוהק
מודול התצוגה התעשייתי משתמש בתהליך Triple Anti - בוהק: "ציפוי קשה + מיקרו -מבנה + ציפוי AR":
התקשות בסיס: 3 - ציפוי קשיח מבוסס סיליקון 5 מיקרומטר עם קשיות עיפרון של 8 שעות
מיקרו-פני השטח - תחריט: יוצר מבנה קעור קבוע {}}} עם תקופה של 200-400nm
ציפוי מגנטרון מטרוט: מרבצים 7 שכבות של סרטי MGF2/SiO2 לסירוגין, השגת רפלקטיביות של<0.5%
רחב - תכנון מעגלי התקנים בטמפרטורה
משתמש בטמפרטורה - מנהל התקן פיצוי עם:
64 עקומות גמא לתכנות
אלגוריתם פיצוי תאורה אחורית דינאמית
- מעגל ההפעלה בטמפרטורה נמוכה של 40 מעלות
חיישני טמפרטורה על הסיפון מתאימים את פרמטרי הנהג בזמן אמת, ומבטיחים עקביות תצוגה של<3°C across the entire temperature range.
II. מערכת חומרי מפתח
יתרונות הביצועים של מודולי LCD תעשייתיים נובעים בעיקר ממערכת החומרים הייחודית שלהם.
חומרי מצע
גבוה - אלומינה - זכוכית סיליקה: תוכן al₂o₃ של 18 - 22%, מקדם התפשטות תרמית של 3.2 × 10⁻⁶/ מעלה, והתנגדות זעזועים תרמית גדולה פי חמישה מזכוכית סודה-לימה רגילה.
מצע גמיש: חומר פולימיד (PI), עמידות לטמפרטורה העולה על 300 מעלות, עם רדיוס כיפוף של עד 3 מ"מ.
סרט אופטי פונקציונלי
סרט משופר נקודה קוונטית: CDSE/ZNS Core - מבנה מעטפת, גודל החלקיקים הנשלט על 8-12nm, צבע סולם מגיע ל- NTSC 110%
סרט מקוטב מהורהר: סרט פולימר רב שכבתי DBEF, שיפור ניצול האור ב- 60%
חומרי קריסטל נוזליים מיוחדים
גביש נוזלי פרואלקטרי: זמן תגובה<100μs, suitable for high-speed refresh applications
פולימר - גביש נוזלי מיוצב: מוסיף 5 - 8% מונומר תגובתי, יוצר מבנה רשת תלת ממדי לאחר ריפוי UV
חומרים מוליכים
אלקטרודות ננו-אייר כסף: קוטר 30-50 ננומטר, התנגדות מרובעת<10Ω/□, transmittance >92%
Graphene transparent circuit: Carrier mobility >1000 ס"מ ²/v · s
III. טכנולוגיית שיפור אמינות
טכנולוגיית איטום קצה
שרף אפוקסי - חומר איטום מורכב של אבקת זכוכית:
רכיב עיקרי: ביספנול שרף אפוקסי (60-70%)
מילוי: אבקת זכוכית בורוסיליקט (גודל החלקיקים 2-5 מיקרומטר)
חומר ריפוי: חומר ריפוי חומצי אנהידריד
קצב העברת אדי מים<0.01g/m²·day, 10 times better than ordinary butyl rubber
טיפול בהגנה אלקטרומגנטית
סרט Ito Surface: התנגדות מרובעת 100Ω/□, אפקטיביות מיגון 30dB @ 1GHz
רשת מתכת: רשת Cu עם רוחב קו 5 מיקרומטר ומגרש 200 מיקרומטר, יעילות מיגון 45dB
אנטי - ציפוי קורוזיה
ציפוי קונפורמי באמצעות פרילין שונה:
עובי התצהיר 8-12 מיקרומטר
אין קורוזיה לאחר 1000 שעות של בדיקת ריסוס מלח
חוזק דיאלקטרי> 5000 וולט/מ"מ
Iv. הוראות תהליכים מתעוררות
טכנולוגיית מיקרו -מכון לייזר: דיוק חיתוך לייזר UV של ± 2 מיקרומטר, חום - אזור מושפע<5μm
ליטוגרפיה של NanoImprint: מסוגל ליצור דפוסי אלקטרודה שקופים עם קו קו של 150 ננומטר
תצהיר שכבה אטומית (ALD): צמיחה של סרטי מחסום של AL₂O₃ עם שיעורי העברת מים וחמצן נמוכים עד 10⁻⁶G/M² · יום
היישום של תהליכים וחומרים מיוחדים אלה איפשר למודולי LCD תעשייתיים מודרניים להשיג זמן ממוצע בין כשלים (MTBF) העולה על 100,000 שעות, תוך התאמה לדרישות סביבות תעשייתיות קיצוניות כמו תעשיות הנפט, הכוח והמעבר. עם קידום מדעי החומרים, מערכות חומרים חדשות כמו גבישים נוזליים גרפין ונקודות קוונטיות של perovskite מניעות את טכנולוגיית התצוגה התעשייתית לקראת ביצועים גבוהים יותר.